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Fourniture d’un équipement de gravure par plasma - RIE (Reactive Ion Etching)
Centre National de la Recherche ScientifiqueProcédure ouverteFournitures
Date limite de réponseclos, publié le 8 février 2026
Date limite de réponse
- La date de la dernière publication qui en donne une, corrections comprises, telle que l'acheteur l'a publiée.
Durée4 ans
Lots
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SuivreRéférence, sources et dates de publication
- Référence
- 26-12969
- Source de référence
- BOAMP (DILA)
- Publication officielle
- 26-12969 ↗ (nouvel onglet)
- Première parution
- 8 février 2026
- Dernière publication
- 8 février 2026
- Dernière correction
- aucune
- SIRET de l'acheteur
- 18008901303720