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achat d'un équipement de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (pecvd)

Institut National Sciences AppliquéesProcédure ouverteFournitures

Attribué260 k€montant HT, à entreprise retenue non identifiée, le 19 décembre 2017
Date limite de réponseclos, publié le 1er octobre 2017

Date limite de réponse

  • La date de la dernière publication qui en donne une, corrections comprises, telle que l'acheteur l'a publiée.

Méthode

Durée8 mois

Le besoin

Objet
achat d'un équipement de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (pecvd)
Description
Achat d’un équipement de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD)
Durée
8 mois
Prolongation
non prévue

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Résultat

1
Résultat publiéMarchéTitulaireAttribué leMontant
résultat 17-179367 (nouvel onglet)paru le 22 avril 2018Marchémarché non retrouvé, lu dans le résultat · 2 offres reçuesentreprise retenue non identifiée19 décembre 2017la notification n'est pas publiée dans l'annonce259 840 €montant du marché

Avant cet appel d'offres

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Identité

Code CPV
Simulateur de recherche, d'essai et scientifique et technique, code 38970000
Prix habituel
montants de référence du code 38970000
Nature
Fournitures
Procédure
Procédure ouverte
Référence, sources et dates de publication
Référence
17-136864
Source de référence
BOAMP (DILA)
Publication officielle
17-136864 ↗ (nouvel onglet)
Première parution
1er octobre 2017
Dernière publication
1er octobre 2017
Dernière correction
aucune
SIRET de l'acheteur
non publié par la source
Contact
publié dans l'appel d'offres 17-136864, paru le 1er octobre 2017