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Fourniture de masques pour les opérations de photolithographie pour la microélectronique et les microsystèmes d'ESIEE PARIS

Date limite de réponse14 oct. 2016clos, publié le 28 septembre 2016

La date de la dernière publication qui en donne une, corrections comprises, telle que l'acheteur l'a publiée.

Durée24 mois

Le besoin

Objet: Fourniture de masques pour les opérations de photolithographie pour la microélectronique et les microsystèmes d'ESIEE PARIS
Description: La fourniture de masques pour les opérations de photolithographies pour la microélectronique et les microsystèmes d'ESIEE Paris. L'accord cadre sera conclu avec un montant minimum de 30 000 euros H.T et un montant maximum de 64 000 euros H.T.
Durée: 24 mois
Accord-cadre: oui, avec une seule titulaire
Prolongation: possible, pour une nouvelle période · « Le marché est reconductible 1 fois sans que sa durée totale ne puisse excéder 4 années »

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Code CPV: Composants électroniques, code 31711100
Prix habituel: montants de référence du code plus large 31710000 (Équipement électronique)
Nature: Fournitures
Procédure: Procédure ouverte

Référence, sources et dates de publication

Référence: 16-140253
Source de référence: BOAMP (DILA)
Publication officielle: 16-140253 ↗ (nouvel onglet)
Première parution: 28 septembre 2016
Dernière publication: 28 septembre 2016
Dernière correction: aucune
SIRET de l'acheteur: non publié par la source
Nom publié sur cet appel d'offres: CCI Paris Ile-de-France
Acheteur: Acheteur rattaché à sa page par le SIREN que publie l'appel d'offres. L'appel d'offres ne publie pas son SIRET.
Contact: publié dans l'appel d'offres 16-140253, paru le 28 septembre 2016