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Appel à candidature au titre du 1% artistique pour la construction du nouveau campus diplomatique français à Nairobi Kenya
Ministère des Affaires étrangèresProcédure adaptéeServices
Date limite de candidatureclos, publié le 25 août 2016
Date limite de candidature
- La date de la dernière publication qui en donne une, corrections comprises, telle que l'acheteur l'a publiée.
- Seule la date limite de candidature est publiée : les candidats retenus remettent leur offre ensuite.
Le besoin
- Objet
- Appel à candidature au titre du 1% artistique pour la construction du nouveau campus diplomatique français à Nairobi Kenya
- Description
- La prestation artistique comprend la conception, la réalisation et l'installation in situ d'une oeuvre unique conçue dans le cadre de l'obligation de décoration des constructions publiques, et plus particulièrement pour la décoration du nouveau campus diplomatique de Nairobi (Kenya).
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Identité
- Code CPV
- non renseigné
- Nature
- Services
- Procédure
- Procédure adaptée
Référence, sources et dates de publication
- Référence
- 16-125563
- Source de référence
- BOAMP (DILA)
- Publication officielle
- 16-125563 ↗ (nouvel onglet)
- Première parution
- 25 août 2016
- Dernière publication
- 25 août 2016
- Dernière correction
- aucune
- SIRET de l'acheteur
- non publié par la source
- Contact
- publié dans l'appel d'offres 16-125563, paru le 25 août 2016