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réalisation d'une enceinte réactionnelle à plasma sous vide de dépôt de couches minces de matériaux diélectriques pour le LSPM de l'université Paris 13 à Villetaneuse
Université Paris 13Procédure ouverte
Date limite de réponseclos, publié le 28 juillet 2015
Date limite de réponse
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Le besoin
- Objet
- réalisation d'une enceinte réactionnelle à plasma sous vide de dépôt de couches minces de matériaux diélectriques pour le LSPM de l'université Paris 13 à Villetaneuse
- Description
- Réalisation d'une enceinte réactionnelle à plasma sous vide de dépôt de couches minces de matériaux diélectriques pour le LSPM de l'Université Paris 13
- Lieu d'exécution
- VILLETANEUSE, 93430 · département : Seine-Saint-Denis (93)
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Identité
- Code CPV
- Conception et exécution dans le domaine de la recherche et du développement, code 73300000
- Prix habituel
- montants de référence du code 73300000
- Nature
- non renseignée
- Procédure
- Procédure ouverte
Référence, sources et dates de publication
- Référence
- 15-117000
- Source de référence
- BOAMP (DILA)
- Publication officielle
- 15-117000 ↗ (nouvel onglet)
- Première parution
- 28 juillet 2015
- Dernière publication
- 28 juillet 2015
- Dernière correction
- aucune
- SIRET de l'acheteur
- non publié par la source
- Contact
- publié dans l'appel d'offres 15-117000, paru le 28 juillet 2015